Comparative Study on the Impact of Stacking Order of Precursor Layer Films by Exposing the Precursors Layers to the Sulfur Vapor at Low Temperature

OLGAR M. A., SEYHAN A., TOMAKİN M., KUCUKOMEROGLU T., BACAKSIZ E.

5th International Conference on Materials Science and Nanotechnology for Next Generation, Nevşehir, Türkiye, 4 - 06 Ekim 2018, ss.84-87

  • Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
  • Basıldığı Şehir: Nevşehir
  • Basıldığı Ülke: Türkiye
  • Sayfa Sayıları: ss.84-87
  • Recep Tayyip Erdoğan Üniversitesi Adresli: Evet